Dylunwyr Patrymau Arwyneb yn arddangos eu doniau


05.07.2018

Yn dilyn Wythnos 1 lwyddiannus iawn yr wythnos diwethaf yn arddangosfa New Designers yn Llundain, mae’n destun cyffro mawr i ni i gyhoeddi y bydd dau o’n myfyrwyr sy’n graddio eleni ac un o’n cyn-fyfyrwyr yn ymddangos yn wythnos 2.

Student with designs

Dyma’r tro cyntaf i hyn ddigwydd yn achos ein rhaglen ni ac mae'n adlewyrchu ehangder cyrhaeddiad ac apêl y rhaglen Dylunio Patrymau Arwyneb yng Ngholeg Celf Abertawe.  Fel arfer mae Wythnos 2 yn rhoi sylw i gynnyrch, dylunio diwydiannol, celfi, graffeg, darlunio a’r celfyddydau digidol. 

O blith carfan gyfredol y radd Meistr Integredig mewn Dylunio, mae’r myfyrwyr Jess Hill a Stacey Mead, sydd ar eu 4edd flwyddyn, yn arddangos eu gwaith yn rhan o’r stondin Dylunio Cynnyrch, Dylunio Modurol a Thrafnidiaeth.   Mae eu gwaith wedi datblygu o sylfaen gref mewn tecstilau a disgyblaethau craidd cysylltiedig megis dylunio patrymau, argraffu ac addurno arwynebau.  Yn fwy diweddar yn eu hastudiaethau maent wedi mwynhau camu ymlaen o ddefnyddio brethyn, ac wedi cael eu hunain yn gweithio mewn modd arloesol gan archwilio deunyddiau mwy caled megis pren, gwydr, metelau a phlastigau.   Bydd y myfyrwyr yn dangos eu dyluniadau yng nghyd-destun amgylchedd hollol newydd i’r rhaglen Patrymau Arwyneb – nhw yw ein harloeswyr!

Students with their work

Mae Jess a Stacey yn gyfarwydd iawn â’r math hwn o her, gan eu bod wedi dangos eu gwaith yn llwyddiannus yn arddangosfa Object Rotterdam ym mis Chwefror eleni.  Yn ogystal mae’r ddwy fyfyrwraig wedi bod yn rhan o friffiau byw sylweddol drwy gydol eu blwyddyn olaf – gan weithio ar gomisiynau ar gyfer y datblygiad newydd yn SA1, a gyda Willis Newson, arbenigwr cynllunio mewnol ym maes dylunio ar gyfer gofal iechyd.  Mae eu gwaith yn archwilio’r maes cyffrous sy’n datblygu rhwng patrwm, tecstilau a phensaernïaeth, a’r bwlch rhwng patrwm, tecstilau a chynnyrch, gan ddefnyddio cyfarpar helaeth a gallu amlddisgyblaethol y rhaglen.  Rydyn ni’n ysu am gael clywed yr ymateb a gânt i’w gwaith.  Gellir dweud â sicrwydd eu bod yn barod ar gyfer y cam nesaf yn eu hanturiaethau creadigol, a’u bod heb os yn mynd i gael gyrfa lwyddiannus!

https://www.staceymead.co.uk

http://jesshilldesigns.wixsite.com/portfolio

Yn ogystal, bydd Nia Rist Morgan, cyn-fyfyrwraig a raddiodd o’r cwrs Patrymau Arwyneb yn 2016, yn arddangos yn y gystadleuaeth ffyrnig ‘One Year In’ sy’n rhoi sylw i raddedigion diweddar sydd wedi cwblhau blwyddyn yn eu mentrau creadigol.  Ers graddio mae wedi bod yn ychwanegu bob yn dipyn at ei hystod o gynnyrch mewnol trawiadol a chyfoes, sef ‘NiaRist’, ar ôl cael cyfle yn y lle cyntaf i ddangos ei gwaith yn arddangosfa Gwobr Jane Phillips yn Oriel Mission.  A hithau wedi ennill profiad trwy weithio gyda’i chysylltiadau ym maes cynllunio mewnol, wedi profi’r farchnad mewn ffeiriau a marchnadoedd dylunio yn genedlaethol, ac yn fwy diweddar wedi cydweithio gyda’r fyfyrwraig Hannah Beniamous, sy’n graddio eleni, ar brosiect steilio, mae Nia’n barod i wneud enw iddi ei hun yn ystod Wythnos 2 arddangosfa ND18.  Dymunwn bob lwc iddi yn ei menter gyffrous iawn.  Rydym yn eithriadol o falch o’i blaengaredd a’i brwdfrydedd entrepreneuraidd a gwyddom y bydd y gynulleidfa yn arddangosfa New Designers wrth ei bodd â’i chasgliad trawiadol.

https://www.niaristprints.com/line-dot

Nodyn i'r Golygydd

Mae 3 blynedd gyfan wedi mynd heibio ers i dîm recriwtio talent H&M gysylltu â graddedigion Dylunio Patrymau Arwyneb 2015 yn nigwyddiad y New Designers, sef yr arddangosfa dalent a gynhelir yn y Ganolfan Ddylunio yn Llundain. Darllenwch mwy am ein hanes yn y digwyddiad yma drwy glicio'r linc yma.

Gwybodaeth Bellach

Cate Hopkins

Swyddog y Wasg a’r Cyfryngau| Press and Media Officer

Cyfathrebu Corfforaethol a Chysylltiadau Cyhoeddus| Corporate Communications and PR

Swansea:   Mount Pleasant campus, Mount Pleasant, Swansea, SA1 6ED

Mobile:      07384 467 078

Skype:       Catherine Hopkins

Email:        catherine.hopkins@uwtsd.ac.uk

Hafan Ystafell Newyddion